Vers une nouvelle avancée majeure de la Chine dans les semi-conducteurs ?

Ce n’est encore qu’un simple brevet. Mais il pourrait représenter une avancée technologique majeure pour la Chine, lui permettant de contourner les sévères restrictions d'exportation imposées par les Etats-Unis et ses alliés sur les puces les plus avancées et les équipements nécessaires à leur production.

Rayonnement ultraviolet extrême

Mardi 10 septembre, l'équipementier Shanghai Micro Electronics Equipment (SMEE) a rendu public un brevet, déposé l’an passé, portant sur un système de lithographie par rayonnement ultraviolet extrême (EUV en anglais), rapporte le South China Morning Post. Cette technologie, indispensable pour obtenir les finesses de gravure les plus fines, n’est actuellement maîtrisée que par le néerlandais ASML. Son exportation vers la Chine n’a jamais été autorisée par les Pays-Bas.

À ce stade, le brevet déposé par SMEE, qui n'a pas encore validé par les autorités chinoises, doit être considéré avec précaution. Fondée il y a plus de 20 ans, l’entreprise n’est pas connue comme un acteur très avancé dans le domaine des machines de lithographie. En décembre 2023, elle avait réalisé une première avancée, en lançant un système par ultraviolets profonds (DUV), permettant de graver des composants en… 28 nm. Très loin des finesses inférieures à 7 nm que permettent de réaliser les systèmes EUV.

Actuellement, 99% des machines de lithographie (uniquement DUV) utilisées par l’industrie chinoise sont fournies par ASML et ses deux rivaux japonais Canon et Nikon. Cependant, l'accès à ces équipements étrangers est désormais remis en cause. Sous la pression de Washington, La Haye et Tokyo ont aussi mis en place des restrictions d’exportation. Et les Etats-Unis continuent de réclamer une interdiction de maintenance sur le parc déjà installé.

Accélérateurs pour l'IA

Surtout, la Chine ne peut toujours pas acheter des systèmes EUV, indispensables pour atteindre des finesses de gravure inférieure à 7 nm. L’an passé, SMIC, le principal fondeur du pays, a réussi à graver, pour la première fois à grande échelle, un processeur mobile en 7 nm, conçu par la filiale HiSilicon de Huawei. Pour y parvenir, il a dû tirer le potentiel maximum des machines DUV qu’il possède.

Pour aller plus loin, SMIC devra mettre la main sur la technologie EUV. C’est particulièrement important pour la Chine, afin de ne pas se retrouver dépassée dans le domaine de l’intelligence artificielle générative, alors qu'elle ne peut plus acheter les cartes graphiques les plus puissantes de Nvidia. Pékin a donc décidé d'investir massivement dans les semi-conducteurs, notamment pour concevoir ses propres équipements.